優先審査申請の一部手続き緩和　ベンチャー・中小企業に迅速な権利確保の道拡大

（特許・実用新案優先審査の申請に関する告示改正案内）

1. 主な改正内容

特許・実用新案の優先審査の申請に関する告示が一部改正され、2025年2月19日に施行されました。主要な改正内容は次の通りです。

I.優先審査申請の際に必要な自己先行技術調査要件を削除し、申請人の希望により記載できるよう書式が整備された（第4条第2号）

II.第4条第2ソ目に基づく「先端技術」について、他法を参考に先端技術を定めることができるよう規定が整備された（第4条第2ソ目）

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2. 告示の変更がもたらす変化の見通し

(1) 自己先行技術調査要件の削除：自己先行技術調査が必須要件でないよう変更され、出願人としては優先審査をよりスムーズに利用することができ、これにより、優先審査申請がより拡大されるものと予想されます。

特に、ベンチャー企業や中小企業は、自己先行技術調査要件が削除され、より優先審査が促進されるともの予想されます。

(2) 先端技術分野の優先審査要件の明確化と拡大：半導体、ディスプレイ、二次電池、バイオ、ヘルスケア、人工知能等の国家先端戦略産業に関する技術について、特許庁長が定める期間内に優先審査申請が可能です。

　上記の通り告示の変更により、緊急な権利確保が必要な出願又は技術競争力が重要な分野の出願について、いまこそ優先審査申請を積極的に検討可能なタイミングです。すでに出願中、又は出願予定の発明が上記の優先審査対象に含まれる技術なのでしたら、優先審査申請すべきかについて検討してみることをお勧めします。